半导体湿法刻蚀加工技术
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图书详情
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出版社
-
ISBN9787030747440
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作者
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页数156
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出版时间2023年09月01日
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定价¥89.00
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所属分类
内容提要
本书全面阐述了半导体刻蚀加工及金属辅助化学刻蚀加工原理与工艺，详细讲述了硅折点纳米线、超高深径比纳米线、单纳米精度硅孔阵列三类典型微/纳米结构的刻蚀加工工艺，并对第三代半导体碳化硅的电场和金属辅助化学刻蚀复合加工、第三代半导体碳化硅高深宽比微槽的紫外光场和湿法刻蚀复合加工工艺进行了详细论述。
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