薄膜物理与薄膜技术均是正在发展的学科与技术,有关薄膜的性质,薄膜形成机理的某些内容还处于探讨中,薄膜技术也在不断发展与完善之中;因此,《薄膜物理与技术》只能着重介绍薄膜物理与薄膜技术的基本内容,不可能对这两大部分的广阔而丰富的内容作全面而详尽的论述。 《薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业本科专业基础教材,也可供物理电子技术、半导体物理与器件、应用物理、敏感材料与传感器等专业的本科生和研究生,以及从事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技术和电子材料与元器件、混合微电子技术等厂所的工程技术人员使用和参考。

**章 真空技术基础
1-1 真空的基本知识
1-2 稀薄气体的基本性质
1-3 真空的获得
1-4 真空的测量

第二章 真空蒸发镀膜法
2-1 真空蒸发原理
2-2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
2-3 蒸发源的类型
2-4 合金及化合物的蒸发
2-5 膜厚和淀积速率的测量与监控

第三章 溅射镀膜
3-1 溅射镀膜的特点
3-2 溅射的基本原理
3-3 溅射镀膜类型
3-4 溅射镀膜的厚度均匀性

第四章 离子镀膜
4-1 离子镀原理
4-2 离子镀的特点
4-3 离子轰击的作用
4-4 离子镀的类型

第五章 化学气相沉积
5-1 化学气相沉积的基本原理
5-2 化学气相沉积的特点
5-3 CVD方法简介
5-4 低压化学气相沉积
5-5 等离子体化学气相沉积
5-6 其他化学气相沉积法

第六章 溶液镀膜法
6-1 化学反应沉积
6-2 阳极氧化法
6-3 电镀法
6-4 LB膜的制备

第七章 薄膜的形成
7-1 凝结过程
7-2 核形成与生长
7-3 薄膜形成过程与生长模式
7-4 溅射薄膜的形成过程
7-5 薄膜的外延生长
7-6 薄膜形成过程的计算机模拟

第八章 薄膜的结构与缺陷
8-1 薄膜的结构
8-2 薄膜的缺陷
8-3 薄膜结构与组分的分析方法

第九章 薄膜的性质
9-1 薄膜的力学性质
9-2 金属薄膜的电学性质
9-3 介质薄膜的电学性质
9-4 半导体薄膜的性质
9-5 薄膜的其他性质
参考文献