本书是根据集成电路设计的特点,结合集成电路制造和封装测试的有关知识和技术,系统介绍了MOS管集成电路设计的有关基础理论知识、半导体集成电路和基本加工工艺和设计规则等内容。

前言 第1章 绪言 1.1 集成电路设计的有关概念 1.2 集成电路的分类 1.3 集成电路的发展 1.4 集成电路的设计方法 1.5 模块化设计的概念 习题与思考题 第2章 半导体预备知识 2.1 引言 2.2 本征半导体 2.2.1 本征半导体的概念 2.2.2 本征激发 2.3 杂质半导体 2.3.1 p型半导体 2.3.2 n型半导体 2.3.3 杂质的补偿作用 2.4 pn结的形成及其特性 2.4.1 pn结的形成 2.4.2 pn结的特性 习题与思考题 第3章 mos晶体管 3.1 引言 3.2 mos晶体管的结构 3.3 mos晶体管的工作原理 3.3.1 栅极电υgs对导电沟道的控制作用 3.3.2 漏极电υds对导电沟道的影响 3.4 mos晶体管的电流电压关系 3.4.1 nmos晶体管的电流电压关系 3.4.2 mos晶体管的电流电压关系对比分析 3.5 mos晶体管的主要特性参数 3.5.1 阈值电压 3.5.2 跨导 3.5.3 mos晶体管的直流导通电阻 3.5.4 mos晶体管的交流电阻 3.5.5 mos晶体管的*高工作频率

梁竹关、赵东风编著的《mos管集成电路设计》以10章篇幅,介绍了mos管集成电路设计的基础理论知识,以及mos管模拟集成电路和数字集成电路的基本设计方法和技术。本书可作为高等院校电子科学与技术、电子信息科学与技术、电子信息工程及通信工程等专业的本科生和研究生教材,也可供有关科研人员和工程技术人员参考。