**章 微米-纳米材料微观结构表征概述
**节 微米-纳米材料微观结构透射电子显微镜常用表征法
透射电子显微镜是研究微米-纳米材料微观结构的重要手段。透射电子显微镜一般分为分析型透射电子显微镜和高分辨率透射电子显微镜。透射电子显微镜主要是研究试样的内部形貌、晶体结构、晶粒大小、物相特点、晶体缺陷等;配以能谱还可以研究元素在试样内部的存在状态或分布情况。目前,分析型透射电子显微镜的底片放大倍数一般*高为30万倍,高分辨率透射电子显微镜的底片放大倍数*高为150万倍,底片经光学放大,照片可达1000~2000万倍。
透射电子显微镜电子束一般只能穿透纳米厚度的试样。用透射电子显微镜研究试样微观结构时,首先必须从试样中切取透射电子显微镜电子束可以穿透的纳米厚度的薄膜。目前,国内外已有一些比较成熟的方法可以从相对宏观的试样,即用普通方法可以切割、磨抛的试样中切取透射电子显微镜电子束可以穿透的薄膜;但是,还没有其他成熟的技术可以从相对微观的试样,即用普通手段不能直接切割、磨抛的试样中切取透射电子显微镜电子束可以穿透的薄膜。
微米-纳米材料试样按形貌不同可分为颗粒状试样、纤维状试样、多层膜或含有界面的试样。下面根据文献报道,对这些试样的微观结构用透射电子显微镜进行表征的常用方法作一简述。
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