出版日期：2007年01月
ISBN：9787122013149
[十位：7122013146]
页数：249
定价：￥38.00
店铺售价：￥9.40
（为您节省：￥28.60）
店铺库存：4
本
正在处理购买信息，请稍候……
我要买：
本
* 如何购买
联系店主：
18179217950
店主推荐图书：
-
￥25.80
-
100分
满分
确认收货后30天未评价，系统默认好评！
[2024-12-21 09:45:23]
王**
成都市
-
100分
满分
确认收货后30天未评价，系统默认好评！
[2024-12-21 08:30:56]
邹**
武汉市
-
100分
满分
确认收货后30天未评价，系统默认好评！
[2024-12-16 22:12:07]
苏*
福州市
-
100分
满分
确认收货后30天未评价，系统默认好评！
[2024-12-15 19:57:21]
雪*
兰州市
-
100分
满分
确认收货后30天未评价，系统默认好评！
[2024-12-15 16:54:02]
庞**
湛江市
《薄膜材料与薄膜技术(第二版)》内容提要：
本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识,**介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征,对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。
本书技术先进,内容实用,适合于从事材料研究的科研、技术人员阅读参考,同时也可作为高校材料专业教材使用。
《薄膜材料与薄膜技术(第二版)》图书目录：
**章 真空技术基础
**节 真空的基本知识
一、表示真空程度的单位
二、真空区域的划分
三、固体对气体的吸附及气体的脱附
第二节 真空的获得
一、旋片式机械真空泵
二、复合分子泵
三、低温泵
第三节 真空的测量
一、电阻真空计
二、热偶真空计
三、电离真空计
参考文献
第二章 薄膜制备的化学方法
**节 热氧化生长
第二节 化学气相沉积
一、一般化学气相沉积反应
二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法
三、激光化学气相沉积
四、光化学气相沉积
五、等离子体增强化学气相沉积
第三节 电镀
第四节 化学镀
第五节 阳极反应沉积
第六节 LB技术
参考文献
第三章 薄膜制备的物理方法
**节 真空蒸发
一、真空蒸发沉积的物理原理
二、真空蒸发技术
第二节 溅射
一、溅射的基本原理
二、溅射镀膜的特点
三、溅射参数
四、溅射装置
第三节 离子束和离子助
一、离子镀
二、阴极电弧等离子体沉积
三、热空阴极枪蒸发
四、离子轰击共沉积
五、非平衡磁控离子助沉积
六、离子束沉积
第四节 外延生长
一、分子束外延(MBE)
二、液相外延生长(LPE)
三、热壁外延生长(HWE)
四、有机金属化学气相沉积(MOCVD)
参考文献
第四章 薄膜的形成与生长
**节 形核
一、凝聚过程
二、LangmuIR-Frenkel凝聚理论
三、成核理论
四、实验结果
第二节 生长过程
一、一般描述
二、类液体合并
三、沉积参数的影响
第三节 薄膜的生长模式
第四节 远离平衡态薄膜生长
一、粗糙表面的结构和生长
二、简单模型
三、薄膜生长模型的实验研究
参考文献
第五章 薄膜表征
**节 薄膜厚度控制及测量
一、沉积率和厚度监测仪
……
第六章 薄膜材料
参考文献